Research and Development

OKTOKI는 지속적인 연구 개발로 미래를 준비합니다

Institute of Technology

정부 주요 개발 과제 참여 / 국가 연구기관 / 관련 업체와 기술교류
국책 연구소와의 컨소시엄을 통한 공동연구

Color 태양광 판넬

Sputtering 방식과 PECVD 방식에 의한 Multilayer 코팅에 의한 Color 구현방식의 가격경쟁력을 위하여 유리 및
Film을 이용한 컬러 유리개발과, 고 투과 태양광 판넬 개발을 통하여 심미성의 컬러 태양광 판넬 연구를 할 것입니다.

5G EMI 소재

Sputtering 방식에 의한 Cu 등 금속 코팅 물질을 이용하여, PI 필름, PET 필름 등 Roll to Roll sputter 코팅하여 극동박 형성을 연구를 하고 있습니다. 전기동도금 방식에 비하여 당사의 sputtering 방식 은 ultra Thin 동박의 표면 두께가 균일하여 높은 신뢰성이 요구되는 하이엔드 제품에 적용이 가능하며, 전기동도금 방식에 비하여 원가 구조가 우수하여 가격경쟁력을 갖출 것으로 예상하고 있다.

방열재료

전자기기에서 발생된 열을 방출하기 위해서 높은 열전도도를 갖는 복합체 개발을 위해 무기 필러 및
폴리머의 밀도 최적화하는 연구를 진행하고 있습니다.

기타 Nano Metal Powder

Battery 음극재의 고용량 금속 복합계인 실리콘(Si), 주석(Sn) 음극재가 주목받고 있습니다.
특히 실리콘(Si)계 음극재와 관련하여 고부 가가치 소재인 리튬 이차전지의 음극소재에 활용을 위한 연구를 진행하고 있습니다.

PE CVD 및 sputtering 전기 전자용
Multi layer coating 소재 개발

  • 01 박막 두께 측정을 위한 α step
  • 02 박막 표면 구조 형상측정 AFM
  • 03 박막 저항 측정을 위한 표면저항 측정기
  • 04 박막 투과율 측정을 위한 Photo-spectrometer

Main Product Equipment

In Line Sputter 1st, 2nd
적용기재 Glass, Plastic sheet, Wafer substrate.. 등
금속물질 Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, NiCu, Ni, Ag,Mo 기타 금속물질
반응성 물질 CuOx, TiO2, Nb2O5,SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 및 기타 질화/산화물
Sputter 형태 Sputter + PECVD Hybrid coating
In Line Sputter 3rd
적용기재 Glass, Plastic sheet, Wafer substrate.. 등
금속물질 Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, NiCu, Ni, Ag,Mo 기타 금속물질
반응성 물질 CuOx, TiO2, Nb2O5,SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 및 기타 질화/산화물
Sputter 형태 Sputter + PECVD Hybrid coating
In Line Sputter 4th
적용기재 Glass, Plastic sheet, Wafer substrate.. 등
금속물질 Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, NiCu, Ni, Ag,Mo 기타 금속물질
반응성 물질 CuOx, TiO2, Nb2O5,SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 및 기타 질화/산화물
Sputter 형태 Sputter
In Line Sputter 5th
적용기재 Glass, Plastic sheet, Wafer substrate.. 등
금속물질 Al, Ti, Cr, Cu, NiCr, NiCu, Ni, Ag,Mo 기타 금속물질
반응성 물질 CuOx, TiO2, Nb2O5,SiO2, ITO, SiAlOx, MoOx 및 기타 질화/산화물
Sputter 형태 Sputter + PECVD Hybrid coating